首页
关于中心
中心简介
发展历程
组织机构
生产条件
图形化设备
镀膜设备
刻蚀设备
封装设备
检测设备
可靠性设备
其它设备
成果展示
获奖
标准
著作
专利
器件
对外服务
服务项目
用户指南
收费标准
培训服务
新闻动态
资料下载
联系我们
生产条件
图形化设备
镀膜设备
刻蚀设备
封装设备
检测设备
可靠性设备
其它设备
生产条件
当前位置:
首页
>>
生产条件
磁控溅射镀膜机
原子层沉积机(ALD)
ICPCVD
氧化扩散炉
Parylene真空气相淀积仪
纳米团簇沉积系统
脉冲激光沉积PLD
深硅刻蚀机(DRIE)
反应离子刻蚀机
离子束刻蚀机(IBE)
紫外激光精细微加工设备
飞秒激光微纳刻蚀平台
氟化氙刻蚀
引线键合机
划片机
晶圆键合机
场发射扫描电子显微镜
激光共聚焦显微镜
原子力显微镜(AFM)
常温探针台
高低温探针台
半导体参数分析仪
台阶仪
共54条 3/5
首页
上页
下页
尾页
页