生产条件
主要用于透明、非透明样品进行表面的观察和测量（高度、表面粗糙度、面积、体积和几何测量等），同时可进行三维成像。
光源：405 nm 半导体激光； 总倍率：108x ～ 17,280x；变焦：1x ～ 8x；物镜：明视场平面半消色差透镜5x、10x ；LEXT 专用平面复消色差透镜：20x、50x、100xZ 对焦部分行程：100 mm ；XY 载物台：100×100 mm（电动载物台）；
