离子束刻蚀机(IBE)-中北大学微纳加工中心

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设备名称：离子束刻蚀机(IBE)

用　　途
主要用于Au、Cu、Ti、Pt、Al等各类金属薄膜及LiNbO3材料的刻蚀。

技术指标
离子能量可调范围： Ei=0～1000eV；离子束流：可调范围0~130mA，峰值≥130mA；标准刻蚀角度： θe=0°~90°；刻蚀均匀性：Φ130mm范围内刻蚀不均匀性≤±2%；可加工样品尺寸：≤Φ150mm。