脉冲激光沉积PLD-中北大学微纳加工中心

当前位置: 首页 >> 生产条件 >> 镀膜设备 >> 正文

设备名称：脉冲激光沉积PLD

用　　途
主要用于Al2O3、ITO、TiN、MgO等薄膜沉积。

技术指标
靶材尺寸：Φ60mm；靶材转速：5～20转/分；基片尺寸：≥φ2″；基片转速：5～20转/分；基片与靶台间距：30～90mm可调；极限真空度：≤6.67x10-6 Pa ；加热温度：800℃±1℃。