ME-L 型宽光谱穆勒矩阵椭偏仪-中北大学微纳加工中心

检测设备

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设备名称：ME-L 型宽光谱穆勒矩阵椭偏仪

规格型号：	ME-L	生产厂家：	武汉颐光科技有限公司
工艺类别：	检测设备	所属单位：	微纳加工中心
最小预约时间：	30分钟	位　　置：	微纳加工中心

用　　途
可通过穆勒矩阵、椭偏参数、透射/反射率等参数的测量，实现各种光学薄膜和纳米结构的几何形貌参数和光学特性参数的表征分析

技术指标
光谱范围：210-1650 nm 光谱测量间隔：＜0.8nm @UV-VIS，＜3.5nm @1000-1650nm 单点测量时间：＜15s 光斑大小：大光斑 1-4mm，微光斑 200μm 入射角范围：45-90°，自动变角找焦功能：0-20mm，自动找焦 Mapping 测量功能：支持 200mm*200mm 全基片自定义多点定位测量能力样品台：支持 X/Y/Z，俯仰可调，满足φ200mm 样件真空负压吸附固定测量膜厚重复精度：优于 0.005nm 折射率重复精度：优于 0.0002

技术指标

光谱范围：210-1650 nm
光谱测量间隔：＜0.8nm @UV-VIS，＜3.5nm @1000-1650nm
单点测量时间：＜15s
光斑大小：大光斑 1-4mm，微光斑 200μm
入射角范围：45-90°，自动变角
找焦功能：0-20mm，自动找焦
Mapping 测量功能：支持 200mm*200mm 全基片自定义多点定位测量能力
样品台：支持 X/Y/Z，俯仰可调，满足φ200mm 样件真空负压吸附固定测量
膜厚重复精度：优于 0.005nm
折射率重复精度：优于 0.0002