热蒸发薄膜沉积系统-中北大学微纳加工中心

镀膜设备

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设备名称：热蒸发薄膜沉积系统

规格型号：	ZHD300M	生产厂家：	北京泰科诺
工艺类别：	镀膜设备	所属单位：	微纳加工中心
最小预约时间：	30分钟	位　　置：	微纳加工中心

用　　途
主要用于半导体器件加工过程中MoOx、VOx、LiFx等新型化合物薄膜的蒸发沉积。同时可以用于Ag、Au、Al等低熔点金属薄膜的蒸发沉积。

技术指标
真空极限（空载）：8.0×10-5Pa；漏率：≤0.8Pa/h；基片台尺寸：Φ100mm范围内可装卡各种规格基片；基片台加热及旋转：加热温度250℃，旋转速度：0-20 转/分钟；蒸发源及电源：2对水冷式蒸发电极；1台3kw金属蒸发电源；氩气：0-200SCCM氮气：0-200SCCM氧气：0-200SCCM（准确度：±1.5%F.S）膜厚不均匀性：≤±5%（基片台Φ100mm 范围内）；

技术指标

真空极限（空载）：8.0×10-5Pa；
漏率：≤0.8Pa/h；
基片台尺寸：Φ100mm范围内可装卡各种规格基片；
基片台加热及旋转：加热温度250℃，旋转速度：0-20 转/分钟；
蒸发源及电源：2对水冷式蒸发电极；1台3kw金属蒸发电源；
氩气：0-200SCCM氮气：0-200SCCM氧气：0-200SCCM（准确度：±1.5%F.S）
膜厚不均匀性：≤±5%（基片台Φ100mm 范围内）；