生产条件

镀膜设备

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设备名称：ICPCVD

 

规格型号： SI500D 生产厂家： SENTECH公司
工艺类别： 镀膜设备 所属单位： 微纳加工中心
最小预约时间： 30分钟 位　　置：
用　　途

主要用于SiO2、SiNx、SiC薄膜沉积。
技术指标

沉积厚度：2 μm以下可一次完成；
气体：CF4、O2、Ar、SiH4、NH3；
功率：最高1200W；
最高温度： 310℃。

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